特性

半导体解决方案 | 400-675-2228

提供过滤、纯化和分离解决方案，广泛用于涵盖各类流体，例如化学品、气体、水、研磨液和光阻。

更高的流量。更长的使用寿命。

符合并超越工业标准

半导体应用

化学机械研磨-CMP

颇尔的CMP过滤器可有效去除较大的研磨颗粒，并维持所需的研磨颗粒配方和化学构成。采用根据ILD、STI、钨、铜、阻挡层铜等抛光液定制的选项，采用颇尔过滤器可减少微小划痕、电弧擦痕、震纹和加工不稳定性。
颇尔的CMP过滤器可有效去除较大的研磨颗粒，并维持所需的研磨颗粒配方和化学构成。采用根据ILD、STI、钨、铜、阻挡层铜等抛光液定制的选项，采用颇尔过滤器可减少微小划痕、电弧擦痕、震纹和加工不稳定性。
更多信息
了解更多
了解更多
更少

光刻

颇尔光刻过滤器使用一系列自行研制的薄膜材料，以最大程度地减少颗粒、金属污染、凝胶和微小气泡。经优化的过滤器设计可减少启动过程中的化学品使用量，并使晶圆表面的缺陷最小化，提高产量。
颇尔光刻过滤器使用一系列自行研制的薄膜材料，以最大程度地减少颗粒、金属污染、凝胶和微小气泡。经优化的过滤器设计可减少启动过程中的化学品使用量，并使晶圆表面的缺陷最小化，提高产量。
更多信息
了解更多
了解更多
更少

气体过滤

颇尔的工艺气体过滤器可通过最先进的过滤技术有效去除颗粒。其优势包括过滤效率高、流量大且压差小、杂质气体溢出少。此外，我们的全金属过滤器对于分子污染具有高度透过性。
颇尔的工艺气体过滤器可通过最先进的过滤技术有效去除颗粒。其优势包括过滤效率高、流量大且压差小、杂质气体溢出少。此外，我们的全金属过滤器对于分子污染具有高度透过性。
更多信息
了解更多
了解更多
更少

气体纯化

一种清除和最少化有害分子污染物的方法，对于传统颗粒过滤方法无法企及的领域而言具有重要意义，颇尔的大容量纯化系统可高效去除分子杂质，使用寿命长，从而降低成本。
一种清除和最少化有害分子污染物的方法，对于传统颗粒过滤方法无法企及的领域而言具有重要意义，颇尔的大容量纯化系统可高效去除分子杂质，使用寿命长，从而降低成本。
更多信息
了解更多
了解更多
更少

超纯水

颇尔的超纯水过滤产品可去除胶质污染物，例如硅石、细菌分解物。此系列的过滤器和纯化器可有效清除UPW系统的污染物，以降低金属离子和分子污染的有害影响。
颇尔的超纯水过滤产品可去除胶质污染物，例如硅石、细菌分解物。此系列的过滤器和纯化器可有效清除UPW系统的污染物，以降低金属离子和分子污染的有害影响。
更多信息
了解更多
了解更多
更少

湿式蚀刻

Ultipleat® SP DR 过滤器可为HF和BOE等关键表面处理化学品池提供先进的2nm拦截技术。具有的非对称性气孔设计，系根据颇尔自主研制的铸膜技术而开发，可降低流动阻力，延长使用寿命。
Ultipleat® SP DR 过滤器可为HF和BOE等关键表面处理化学品池提供先进的2nm拦截技术。具有的非对称性气孔设计，系根据颇尔自主研制的铸膜技术而开发，可降低流动阻力，延长使用寿命。
更多信息
了解更多
了解更多
更少

化学品

污染控制是半导体设备制造过程中产生的最棘手的问题之一。颇尔公司提供过滤、纯化和分离解决方案，可广泛用于各类流体，例如化学品、气体、水、CMP研磨液和光阻。
污染控制是半导体设备制造过程中产生的最棘手的问题之一。颇尔公司提供过滤、纯化和分离解决方案，可广泛用于各类流体，例如化学品、气体、水、CMP研磨液和光阻。
更多信息
了解更多
了解更多
更少

400-675-2228

颇尔咨询热线