半导体化学品过滤和净化 | 400-675-2228

适用于各种流体的过滤、纯化和分离解决方案,例如化学品、气体、水、CMP 浆料和光刻胶。

颇尔产品和技术-快速发展的半导体行业内的污染物控制

控制流体发生污染,会导致设备关机并对生产产生负面影响。控制流体过滤器可将流体污染物降至最低,避免关键零件遭到破坏,使涡轮机以峰值效率工作。

 

污染控制是半导体设备制造中的最受关注的问题之一。颇尔公司提供过滤、净化和分离解决方案,用于各种流体,包括化学品、气体、水、CMP浆料和光阻材料。

 

颇尔产品和技术为半导体市场的各种应用提供新型、完善和及时的过滤能力。POR开发生产的化学品过滤和净化产品是在半导体和相关行业中使用长达几十年经验的结晶。每种过滤器都严格遵守质量控制程序,依照产品特性,在各种材料中进行选择。

 

颇尔还为新市场和原有市场提供新型的净化和过滤技术,产品性能一致可靠,在最先进的清洗方法和生产过程方面处于领先水平。半导体行业内的应用包括集成电路、数据存储、平板显示和光伏。颇尔过滤器在颗粒滤除、渗透能力、纯度和鲁棒性方面性能出色。特别是,它们使可抽提物中的总金属量达到十亿分之一,实现低压降,使用PTFE将滤除颗粒尺寸降至5nm

 

颇尔拥有领先的材料技术,已生产出PTFE、聚芳砜、尼龙、PVDE、聚乙烯和聚砜等材料的过滤器,为每种应用提供最佳选择。新型高度不对称聚亚砜膜可改善过滤功能,同时降低操作成本。颇尔电子级高纯度化学过滤器满足最严格的质量控制方案要求。

 

颇尔产品和技术改进半导体工业的关键化学过程。

 

有关提高工艺效率的更多信息,请联系我们的过滤专家团队。

 

 
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