优化解决方案
颇尔优质工艺气体净化解决方案
颇尔工艺气体净化系统可清除会导致晶圆缺陷的杂质。分子杂质，也被称作气态或挥发性杂质，最近作为缺陷源而更受关注，可使用颇尔净化解决方案有效滤除。这些净化器可使用材料反应床排除水分、氧气、二氧化碳、一氧化碳、烃和金属羰基化合物等杂质。排出传统颗粒过滤无效的位置的气流中的杂质。我们的材料可清除背景水平的污染物，不会在工艺流中产生金属或其它有害污染物。所有颇尔净化器组件都集成过滤器，用于清除颗粒物。
应用：
- 惰性气体
- 稀有气体
- 不反应气体
- 氢化物气体
- 全氟化碳和腐蚀性气体
优点：
- 提高工艺稳定性
- 提高面积/工艺效率
- 减少缺陷
- 减少现有颗粒过滤器的改装
- 定制滤材，过净化各种气体
- 拥有成本低
工艺气体净化系统和材料可有效清除颗粒过滤无效区域内的杂质。请联系颇尔专家，帮助您优化工艺气体净化系统，通过减少缺陷和提高产率实现最大现场性能。
有关提高工艺效率的更多信息，请联系我们的过滤专家团队。