半导体湿式蚀刻| 400-675-2228

过滤器与清洁和蚀刻中使用的关键化学品兼容

Ultipleat® SP DR过滤器–使用HAPAS*过滤技术实现先进的污染物控制

Ultipleat® SP DR过滤器可为制备关键表面的化学浴实现2纳米的高级滤留精度,例如,HFBOE。利用颇尔专有薄膜建模技术开发的不对称微孔设计,可降低流动阻力并增加使用寿命。

 

Ultipleat® SP DR过滤器使用HAPAS(高不对称聚芳砜)滤材,可有效用于各种稀释和腐蚀性化学品。该滤膜具有高度不对称的聚芳砜微孔结构,降低从上游到下游表面的尺寸,从而呈现超级滤留、大流量和低压降特点。标准黄金纳米颗粒激发显示可滤留低至2纳米的颗粒。

 

特性:

 

 

Ultipleat® SP DR过滤器可用于清洗和蚀刻所使用的关键化学品。

相比其它滤膜,HAPAS滤材具有大量优点。双滤留技术支持吸附和筛分。最后一层的窄微孔分布通过体积排阻捕获颗粒物。

 

该设计可降低过滤过程中的流动阻力。更大孔隙体积实现更大纳污能力,从而增加使用寿命。与各向同性膜相比,高度不对称结构的滤膜可提高压降特性。预湿滤膜具有高临界润湿表面张力,可降低水性应用中的去湿潜势。

 

该产品的关键特性包括:

 

  • 滤除能力低至2纳米
  • 大流量
  • 高液浴周转速率,迅速清除颗粒物
  • 高度不对称的聚芳砜

 

Ultipleat® SP DR过滤器采用先进的过滤技术,膜性能和性价比得以改进和提高,作为新一代滤膜,可用于清除污染物。欢迎联系颇尔代表,了解产品使用、应用和采购信息。

 
 

有关提高工艺效率的更多信息,请联系我们的过滤专家团队。

 

 
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