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颇尔全球同步首发可立装支架(Kleen-Change In-Line Manifold)产品

2019年9月25日

颇尔全球同步首发可立装支架(Kleen-Change In-Line Manifold)产品

颇尔在 9 月 25 日全球同步首发化学机械抛光工艺中使用的可立装支架(Kleen-Change In-Line Manifold)产品。颇尔是全球高科技的过滤,分离和纯化系统解决方案供应商。在微电子制造领域主要提供包括光刻,湿刻,抛光等微电子制造工艺中使用的液体和气体的过滤,纯化和分离方案的滤芯,滤壳和支架产品。

微电子制造工艺中抛光工艺通过严格控制研磨液颗粒大小,特别是先进半导体制程,降低抛光过程中研磨液中颗粒对 wafer 造成的划伤,提高半导体制造工艺的良率,颇尔提供精度高达 0.1 微米的研磨液过滤系统完整解决方案。

 

研磨液过滤器平均更换周期大约 1~2 周。生产过程中需要频繁更换,传统更换方式在实际操作过程中拆装效率低,不易操作。

可立装支架产品针对微电子制造工艺中化学机械抛光工艺中实际应用场景,为客户提供安全、高效、简便的过滤器换新,能够实现 30 秒左右的过滤器快速换装,从而减少客户过滤器换新的时间和减轻工作强度。

 

颇尔微电子事业部全球产品策略总经理 Greg Daddazio 出席了发布会,并在发布会上强调 “颇尔自主研发的可立装支架产品为自排气,简单易用安全,清洁高效,为客户大幅度降低操作成本”。

 

颇尔微电子事业部中国区总经理 Lydia Li 高度评价这款产品,她说“颇尔通过收集 VOC(Voice of Customer),了解市场需求,提供定制化产品,并与颇尔 Global 团队共同研发出满足市场需求的可立装支架产品,为客户提供安全高效的解决方案,获得了合作伙伴一致好评。” 在产品发布上,她对整个团队的付出和贡献表示感谢,她表示对此款产品的销售前景充满信心!