颇尔，全球过滤、分离和净化方面的专家企业。颇尔提供的尖端膜技术覆盖了芯片制造的各个关键工艺。颇尔为各类半导体设备中用到的化学品、气体、水、研磨液和光阻等各类工艺消耗品提供过滤、纯化和分离解决方案，以实现功能、质量、节省成本和提高生产效率等方面的需求。
半导体设备指用于生产各类半导体产品所需的设备，贯穿硅片生产、集成电路过程、封装、测试整个环节，想要获得良好的设备利用效率、性能和运行成本，控制好化学品的洁净程度至关重要。而颇尔提供的过滤、分离、纯化等服务则可以很好的降低污染物，避免芯片受到影响。
清洗设备
清洗设备广泛应用于集成电路制造工艺中的成膜前/成膜后清洗、等离子刻蚀后清洗、离子注入后清洗、化学机械抛光后的清洗和金属沉积后清洗等各个步骤，几乎所有制程的前后都需要清洗环节。这一环节可将晶圆表面上产生的颗粒、有机物、自然氧化层、金属杂质等污染物去除，以获得所需洁净表面的工艺设备。
颇尔创新性研发了PTFE薄膜过滤产品
PTFE薄膜过滤产品可帮助半导体制造商满足最先进的设备制造过程中的严格化学过滤要求，可控制关键的颗粒尺寸以及保持关键流体纯度，其过滤精度可达2nm。
HAPAS聚砜膜过滤器
应用于各种稀释和腐蚀性化学品，该滤膜具有高非对称性的聚芳砜微孔结构，降低从上游到下游表面的尺寸，从而呈现超级滤留、大流量和低压降特点。
颇尔独创的国际通用GNP检测标准显示可滤留低至2nm的过滤精度，成本远低于同精度PTFE产品。
随着芯片制程压缩，清洗工艺在良率保护、有效清洁、精确度等方面发挥着不可或缺的作用，颇尔尖端的过滤技术可以更好地为客户提供合适的解决方案。
颇尔始终致力于开发更高效、更经济的产品，以满足各种设备和相关应用的需要。