High Flow Sub 1nm HDPE解决方案降低先进光刻应用中的缺陷率

新型High Flow Sub 1 nm PE-Kleen 过滤器

• 新型过滤器的精度为 Sub 1 纳米，由超高纯度、高密度聚乙烯 (HDPE) 介质和高密度聚乙烯 (HDPE) 硬件材料制成。

• 高密度聚乙烯 (HDPE) 是一种高性能材料，以其卓越的硬颗粒去除效果而闻名，使其成为先进光刻工艺中使用的大多数化学品（包括尖端的 EUV 光刻胶材料）的理想选择。与传统的光刻过滤材料相比，它在清洁度和颗粒去除方面有显著提升。

• 新型High Flow Sub 1 nm PE-Kleen 过滤器是先进光刻工程师在其降低缺陷率策略中使用的附加工具。

• 新型High Flow Sub 1 nm PE-Kleen 过滤器经过 Pall颇尔的 Xpress 清洁工艺，可实现卓越的金属、有机物和颗粒清洁度，专为先进的图形化学而设计。

• 高流量、优异过滤精度与 Xpress 清洁强强结合，形成了性能卓越的缺陷控制过滤方案。

新型High Flow Sub 1 nm的高密度聚乙烯 (HDPE) 过滤器