成功所需要的效果
颇尔溶剂净化—自发离子清除
颇尔溶剂过滤器可避免电池表面上的可能有害颗粒物污染、凝胶状颗粒物、形成微泡以及金属污染。颇尔关注不影响排气量的高润湿性滤膜，以减少微泡产生和冲洗次数。
传统过滤器含有与表面直接共价结合的离子交换层；颇尔最尖端的净化器技术可自发和直接清除各种基质和树脂溶剂混合物中的金属。因为该系统实现离子吸附不依赖向树脂珠的慢速扩散，因此非常高效。由于溶剂或水与薄膜上致密的离子交换基团紧密接触，因此可以直接和自发清除痕量污染物。
为了有效清除凝胶和金属离子以及避免凝胶被压出净化器膜而到达电池表面，颇尔将溶剂净化器的膜表面积增至最大。先进的过滤器膜设计利用大表面积产生低压差，从而最大程度地提高金属离子清除效率，并减少微泡形成。薄膜可与典型有机溶剂和有机溶剂混合物完全相容，无可抽出物。最重要的是，可有效清除金属离子。
产品：
- 颇尔IonKleen™
应用：
建议使用IonKleen SL净化使用点处的溶剂，用于净化生产光刻胶使用的前体材料（溶剂、树脂和聚合物）。所有光刻胶生产系统都使用POU过滤器，因此需要小心选择该过滤器，以减少电池表面上的缺陷。选择POU过滤器的全部关键考虑包括清除金属离子和凝胶、尽量少形成微泡、减少化学品消耗和良好相容性。其在净化原液和使用点IPA分液方面也显示出良好效果。
优点：
- 清除90%的金属离子
- 简化设计
- 优化实现大容量
- 干燥出货
- 无菌洁净室环境内生产
颇尔溶剂净化技术可简化光刻胶生产过程和高纯度溶剂应用。如需更多信息，请联系颇尔专家，了解如何优化您的工艺。
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