优化实现最佳性能
颇尔光刻过滤器——减少涂层缺陷和提高产率
光刻分配工艺的质量对于HBLED的效率很关键。
减少光刻胶中的颗粒物污染对于HBLED图像转印过程很关键。光刻胶过滤清除污染并提供稳定的质量图案。颇尔光刻过滤器可选各种膜材和滤除额定值，可有效清除污染物并最大程度地减小压降。通过提供一种快速和简单更换的方法，颇尔EZD过滤器设计可最大程度地减少操作员暴露于光化学。这也最大程度地缩短了更换时间，以及过滤器更换后的工具停用时间。
于颇尔尼龙6.6滤膜可润湿性强，不会影响排气量，这使得产生的微泡减少和冲洗时间缩短。过滤器流路经过优化，可减少启动时的化学品用量，将导致HBLED图案化表面产生的缺陷的气泡形成降至最低。PTFE膜式过滤器可提供极低的工作压力，将分配压力降至最低。Ultipleat过滤器采用小尺寸、大面积过滤器设计，还将分配过程中的压差降至最低。
为了清除凝胶和避免它们挤压通过过滤器膜至HBLED图案化表面，颇尔将膜式过滤器的膜表面积最大化，同时将过滤器尺寸减到最小。颇尔高级过滤器膜设计利用大表面积产生低压差，从而最大程度提高凝胶清除效率和降低微泡产生。在分配过程中，光化学品从高压向低压分配时，低工作压力确保过滤器不会导致光化学品脱气。
对于颇尔工程师而言，尽量减少光刻胶化学特性中的颗粒物是最关键的问题。选择合适的过滤器基本上可滤除污染物或将其降至最低，而不会改变光刻胶化学特性。已知颇尔PTFE膜具有良好的化学相容性，可抽出物量极低。
颇尔产品：
PhotoKleen EZD过滤器组件设计用于清洁、简单、安全和快速更换使用点光化学分配应用中的过滤器。PhotoKleen EZD过滤器组件由头部岐管接口和HDPE或PFA囊式过滤器构成。其理想用于改善现有设备性能，可规定新型的最先进分配泵。
应用:
在选择合适的光刻过滤器时，必须考虑若干因素。主体过滤器和使用点（POU）分配过滤器可避免有害颗粒沉积。POU过滤器是所有精密分配系统的构成部分，因此需要小心选择，以减少HBLED图案化表面上的缺陷。除了清除颗粒和凝胶外，POU过滤器选择的关键因素还包括尽量减少微泡形成、减少化学品消耗和良好的相容性。颇尔使用点囊式设计还可安装于囊式过滤器最高点处的通风口和排放口处，确保完全和易于通风。
优点：
- 最大程度地减少操作员暴露于光刻胶化合物
- 快速更换过滤器，将工具停用时间降至最低
- 低压降实现更长过滤器寿命
- 更高HBLED产率，减少图案缺陷
- 各种清除额定值，实现厚光刻胶应用
- 快速通风设计（产生最少微泡）
颇尔光刻过滤器技术使制造过程流线化，缩短分配系统关闭时间，减少HBLED图案缺陷。如需了解更多信息，请联系颇尔专家了解如何优化光刻工艺。
有关提高工艺效率的更多信息，请联系我们的过滤专家团队。
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