出众的过滤性能
优异的CMP过滤改善微电子制造工艺的稳定性
污染控制是LED制生产过程中的最受关注的问题之一。通过控制浆料颗粒的形状、尺寸和浓度,颇尔CMP过滤器可实现LED工艺性能的最优化,可实现更高产率和更少缺陷。该过滤器可控制浆料颗粒尺寸、形状和大颗粒(LPC)密度,达到LED制造工艺参数。这种优异过滤性能可减少缺陷和过程偏移,例如,微划痕、抛光速率不稳定、化学反应和应力破裂等。
正常情况下,浆料过滤器位于硬盘抛光系统中的2个位置:
- 浆料再循环回路中
- 位于囊式过滤器靠近抛光工具时的使用点(POU)
颇尔提供用于大宗和POU应用的各种滤材和结构,使基材/滤材生产商能够满足超光滑晶圆的要求。
可根据工作压力和浆料化学特性定制过滤器。颇尔优异的CMP过滤器都具有可增强过程控制和稳定性、增加面积/过程效率以及延长浆料寿命的优点。可用于各种流速,而且表面积更大可延长工具寿命。这种优异的解决方案可延长零件更换间隔期,滤器囊较小便于在工具上或工具附近安装。
通过清除污染物和控制浆料尺寸、形状和化学性质,我们的CMP过滤器可实现各种LED
CMP过程性能的最优化。请联系颇尔专家,了解优化您的CMP浆料过滤,实现最大的使用效果。
有关提高工艺效率的更多信息,请联系我们的过滤专家团队。
让我们一起寻找正确的解决方案
让我们合作。我们想立即与您分享我们的创新过滤解决方案。请联系我们经验丰富的主题专家,了解我们为您提供帮助。谢谢,我们将尽快协助您。