湿法刻蚀与化学品 | 400-675-2228

颇尔湿蚀刻清洗过滤器可清除高流速应用中的杂质和污染物,它们可能造成显示屏质量下降。

强力清除杂质

湿法蚀刻清洗过滤器—提高显示器基板清洁度

我们的显示器清洗过滤器可用于制备TFT阵列的蚀刻、解吸、显影和清洗应用以及彩色过滤工艺。清洁解决方案可用于不同灭菌系统,例如,生产高分辨率显示器所使用的循环化学浴、高压喷射和机械清洗系统。滤膜可选各种材质(聚砜、聚醚砜、聚丙烯、ECTFEPTFE和非去湿PTFE),满足显示器基板尺寸对应的颗粒物清除需求。

 

可定制过滤器设计处理>300LPM的流量,尺寸很小,有助于降低显示器生产成本。大流量应用可有效减少和避免缺陷到达基板表面,并且可满足需要的清除滤留。有效过滤对于避免化学浴出现颗粒物很重要,从而有效清洗显示器基板。颇尔过滤器可强效清除清洗化学品中的杂质,有助于满足GEN 10及以上要求,而且可用于更小基板尺寸。

 

应用:

  • 循环浴
  • 单通系统
  • 高速喷射系统
  • 快速倾泻冲洗系统
  • 机械净化系统
  •  

优点:

  • 提高工艺稳定性
  • 大流量应用设计
  • 提高面积/工艺效率
  • 延长化学品使用寿命
  • 减少显示器缺陷
  • 满足GEN 10及以上要求

 

我们的湿法蚀刻清洗过滤器避免会导致关键清洗系统产生污染物的缺陷。欢迎联系颇尔专家,了解如何更好地控制工艺条件,从而提高运行效率和实现技术进步。

 

有关提高工艺效率的更多信息,请联系我们的过滤专家团队。

 

 
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