清除有害颗粒
高级显示器清洗系统实现大流量和行业领先的颗粒清除
湿法蚀刻清洗
我们的湿法蚀刻清洗系统为灭菌系统提供清洗解决方案，包括再循环化学浴、高压喷水和机械洗涤系统。这些可定制过滤器可避免显示器内表面出现缺陷。湿法蚀刻过滤器可强力消除化学浴中的杂质，避免损坏显示器功能。可选30-100nm范围内的最先进产品，满足各种湿法蚀刻清洗过程中的所有微电子显示器应用。
抛光后清洗
颇尔提供用于大型和POU应用的各种滤材和结构，使基材生产商能够满足超光滑晶圆的要求。通过清除有害颗粒污染物，这些高级过滤器可提高清洗后的清洁度。可根据不同工作压力和化学特性要求进行定制。UPK设计采用全氟聚合物零件，可用于各种化学特性要求。
我们的后抛光系统可提高工艺稳定性，避免下游设备结垢，从而缩短停机时间、增加维护节约和提高工艺产率。
光刻工艺清洗
我们的光刻过滤器系统使用多种膜材料，可有效清除光刻工艺化学品中的污染物。散料过滤器和使用点（POU）分液过滤器可避免颗粒有害沉降，减少显示器基板上的缺陷。除了清除颗粒和凝胶外，POU过滤器还将微气泡降至最低，减少化学品消耗和提供独特相容性。
我们的过滤器采用优化设计，在大流量条件下可产生无可比拟的颗粒清除效率，适用于产生高分辨率大型基材尺寸所需要的腐蚀性化学品。ECTFE滤材设计清除凝胶/软颗粒，延长化学品使用寿命。
优点:
- 提高工艺稳定性
- 提高面积/工艺效率
- 延长化学品使用寿命
- 减少显示器缺陷
我们的显示器清洗系统可清除重要清洗系统中可导致缺陷的污染物。如需更多信息，请立即联系颇尔专家。
有关提高工艺效率的更多信息，请联系我们的过滤专家团队。
让我们一起寻找正确的解决方案
让我们合作。我们想立即与您分享我们的创新过滤解决方案。请联系我们经验丰富的主题专家，了解我们为您提供帮助。谢谢，我们将尽快协助您。