实现最大性能
可提高过程能力且减少微痕的数据存储CMP过滤
通过控制浆料颗粒的形状、尺寸和浓度，我们的CMP过滤器可实现更高产率，减少缺陷。采用我们行业领先的过滤器设计，可将浆料颗粒尺寸、形状和大颗粒（LPC）密度控制在规定的工艺参数范围内。
有效过滤可减少缺陷和工艺偏离，从而减少微痕。我们的专家将充分利用现场过滤方案，通过正确实施延长浆料寿命和浆料分布系统寿命。我们的CMP过滤器具有连续的异形微孔结构，可实现内置预过滤和，延长工作寿命。
应用：
浆料过滤器通常位于硬盘抛光系统中的2个位置：浆料再循环回路中和使用点（POU）处，其中囊式过滤器安装在抛光工具附近。颇尔公司提供用于大型和POU应用的各种滤材和结构，使基材/滤材生产商能够满足超光滑晶圆的要求。颇尔过滤器可根据工作压力和浆料化学特性进行定制。通过使用颇尔CMP过滤系统，可以实现工艺稳定性。
优点：
- 提高工艺控制和稳定性
- 提高面积/工艺效率
- 延长浆料寿命
- 减少微痕
通过清除污染物和控制浆料尺寸、形状和化学性质，我们的CMP过滤器可提高任何CMP工艺。请联系颇尔专家，了解优化您的CMP浆料过滤，实现最大的工艺效果。
有关提高工艺效率的更多信息，请联系我们的过滤专家团队。