PE-Kleen™ XPR5 光刻过滤器

随着器件结构持续微缩，先进光刻工艺对洁净度与工艺稳定性的要求不断提升。

半导体制造企业不仅需要实现对超细微颗粒的有效控制，还需要在不影响产线效率的前提下，保障工艺的一致性与可重复性。

然而，传统过滤产品往往难以同时兼顾：

• 高精度颗粒去除能力

• 快速启动（Startup）性能

• 稳定的高效生产

颇尔最新推出的 PE-Kleen™ HDPE XPR5 过滤器，专为先进光刻工艺打造，帮助客户实现更洁净的化学处理和更稳定的光刻性能。

相较于上一代产品，XPR5实现了：

• 更高精的颗粒截留能力，降低缺陷率

• 更快的启动速度，缩短开机时间

• 更稳定、可控的工艺表现，提升设备整体运行效率

PE-Kleen™ XPR5 光刻过滤器融合多项全新开发的关键技术，有效提升整体过滤表现：

• 新一代高性能过滤膜
  提供更高颗粒捕捉效率，降低光刻过程中由颗粒引发的缺陷风险

• 高纯度HDPE材料
  显著提升材料洁净度，降低潜在析出风险

• 优化结构设计
  支持更稳定的过滤性能和持续运行能力

已获得多家先进半导体制造客户关注与验证，适用于对洁净度与稳定性要求严格的光刻应用场景