颇尔长期以来一直致力于立足中国、服务中国。

 

CMP过滤器是半导体制造过程中关键的组成部分。它们在确保晶圆表面平整和均匀方面发挥着至关重要的作用,这对于实现高产量和生产优质芯片至关重要。随着对更高性能计算芯片和先进封装技术的需求增加,对更好的CMP过滤器的需求也随之增加。过滤器有助于去除杂质并防止可能对芯片性能产生负面影响的缺陷。因此,新的和改进的CMP过滤器解决方案可以满足行业不断增长的需求。

CMP工艺优势与过滤挑战

 

CMP作为晶圆平坦化的发展方向具有高效、高精度、适用范围广、可控性好以及可重复性好等诸多优势:

 

适用范围广

CMP可以对不同材料的晶圆表面进行平坦化处理,适用范围广泛。

 

可控性好

CMP的研磨颗粒和化学试剂的组合可以根据需要进行调整,从而实现对处理过程的控制,进一步提高了加工的可控性和一致性。

 

可重复性好

CMP处理过程中涉及到的因素比较稳定,因此可以实现较好的可重复性,对于大规模生产具有重要意义。

 

未使用CMP与使用CMP效果对比

 

凭借上述技术特点和优势,CMP成为目前唯一能兼顾表面全局和局部平坦化的抛光技术,是先进集成电路制造前道工序、先进封装等环节必需的关键制程工艺。

颇尔致力于为中国市场提供高质量过滤产品和灵活服务

 

作为Pall在中国唯一的制造厂,颇尔北京工厂定位为气体产品和熔喷产品制造中心,旨在为中国、亚洲和欧洲市场提供高性价比和富有竞争力的产品,包括气体过滤器、熔喷滤芯、单芯及多芯不锈钢罐体和纤维滤芯等。本土化制造将增强颇尔在变化动荡的国际形势下的供应链韧度,提供更快的交货和更好的质量,并使产品更加贴合本地客户需求,服务更加灵活和及时。

 

颇尔中国北京工厂最近完成了微电子级熔喷产线项目的测试验证,将Profile II过滤器导入国内市场。该过滤器可用于0.3um到100um不同精度范围的研磨液过滤,提供10寸和20寸不同尺寸和端口形式,以满足多样化的生产需求。

 

虽然目前半导体市场处于下行周期,但从长期来看,半导体需求增加势必会拉动晶圆制造产量,进一步扩大CMP市场的规模。因此,颇尔通过多年的膜研发和过滤应用经验,以稳定成熟的供应链体系,致力于为半导体和slurry maker客户提供可靠的CMP过滤解决方案。该解决方案可以将研磨液颗粒尺寸、形状和大颗粒密度控制在规定的工艺参数范围内,减少缺陷和实现工艺稳定性,从而最大化半导体工艺性能。

随着制程工艺和封装技术的不断发展,对CMP材料的精度和技术要求也不断提高。颇尔过滤方案旨在为行业客户赋能,以实现功能、质量、节省成本和提高生产效率。

 

长期以来,颇尔一直将中国市场视为重要市场,持续为其耕耘。颇尔北京工厂的研磨熔喷产线正式投产,将强化颇尔在变化动荡的国际形势下的供应链韧度,提供更好的产品质量和更快的交期,保障供应链的稳定性。

过滤器全新玩法,快速送达质量有保障!

 

颇尔中国的iPALL自主电商平台已正式上线,这一平台为客户提供了更为便捷的购物体验。我们将24小时为客户提供高效的销售和客户服务,同时提供定制化服务以满足客户的特定需求。通过本土化的生产和技术服务,以及电商团队的不断融合,我们不断更新上线的产品,保证与进口同款的高质量和更优性价比。此外,我们的快速交付速度也是我们的优势所在。颇尔正在通过全方位的布局,致力于为客户和整个行业赋能,助力半导体产业升级。欢迎光临iPALL电商平台,体验及时、可靠的购物级过滤器电商服务。

更多 Pall Corporation 新闻发布
December 2023