WESEMiBAY 2026︱技术创新之外，什么在保障先进制造持续向前？

当先进逻辑、HBM、先进封装等技术不断刷新行业边界，半导体产业对于材料、设备和工艺控制提出了越来越高的要求。对于进入量产阶段的半导体客户而言，产品性能是关键因素之一。与此同时，稳定供货、快速响应，以及不同区域的一致品质与服务，同样影响项目推进、工艺连续性和长期运营。

因此，先进制造需要的不只是一款高性能产品，更需要制造、供应链、质量体系与本地服务形成协同。围绕亚太市场，颇尔以新加坡先进制造基地强化区域制造能力，以北京工厂贴近中国客户需求，并依托全球研发与质量体系保持一致标准，让尖端过滤技术能够更加稳定地服务客户。

颇尔新加坡先进制造基地总投资1.5亿美元，新增光刻与湿法化学品两条关键产品线，面向亚太地区先进逻辑、存储器及相关先进工艺应用，进一步增强区域制造和供应能力。作为服务亚太客户的重要区域枢纽，新加坡基地将先进产品制造布局在更贴近市场的位置，为持续增长的区域需求提供支撑。

这一制造布局与先进工艺需求紧密相连。在光刻应用中，颗粒、凝胶和金属离子都可能影响材料洁净度与工艺稳定性。围绕光刻胶原材料、合成过程及后续应用，新加坡基地布局多种过滤与纯化平台：

可实现亚1纳米级颗粒控制，兼顾高洁净度与低析出，有助于去除光刻胶原材料及相关化学品中的微小颗粒和杂质。

可实现2纳米级颗粒控制，并具有高非对称结构和大流量特点。Nylon材料的极性有助于吸附凝胶类污染物，在精密过滤之外兼顾流量与凝胶控制。

用于溶剂等材料中的金属离子去除，帮助降低金属污染风险，为高纯化学环境提供支持。

从原材料纯化到光刻胶合成后的颗粒控制，多元产品平台与区域制造能力相结合，使先进产品更贴近亚太市场，也为客户获得持续、稳定的供应支持提供基础。

如果说新加坡基地强化的是亚太区域制造与供应能力，北京工厂则进一步拉近制造端与中国客户之间的距离。通过本地生产、本地支持与更短的沟通链路，北京工厂能够更加灵活地响应客户需求，为订单交付、项目推进和长期运行提供本土保障。

这一优势同样体现在半导体关键产品的本地化布局中：

面向半导体工艺气体中的分子杂质与颗粒控制需求，为关键制程提供洁净、稳定的气体供应基础。本地化产线有助于增强中国市场的供应与响应能力。

面向CMP研磨液中的LPC大颗粒、团聚颗粒与凝胶控制。其中，UCA 30 nm产品采用先进熔喷工艺和囊式结构设计，在去除异常颗粒与凝胶的同时，尽可能保持浆料颗粒分布，为CMP工艺稳定性和缺陷控制提供支持。

关键产品的本地制造，不仅缩短了供应链路径，也让制造、销售、应用支持与现场服务能够更紧密地协同。客户因此可以获得更及时的响应、更灵活的供应安排，以及更可靠的长期支持。

先进制造的供应保障，很难由单一工厂独立完成。真正重要的是，在本地响应速度、区域制造能力和全球质量体系之间建立协同。

颇尔以北京工厂、日本工厂、新加坡工厂为节点，构建起一个分工协作的亚太铁三角体系。

北京工厂贴近中国市场，强化本土制造、客户响应与关键产品供应；日本工厂与新加坡工厂面向亚太市场，增强光刻与湿法化学品产品的区域制造能力；全球研发与质量体系则为不同制造基地提供一致的技术平台、产品标准与质量要求。

三者协同，将本土制造、区域产能与全球品质连接起来。客户获得的不只是更短的供应路径，更是更快的本地响应、更稳定的区域保障，以及更一致的产品与服务体验。

正是在这一协同体系下，稳定供应、本土制造与全球品质不再是彼此分离的能力，而是贯穿产品制造、交付与服务全过程的统一保障。

无论产品来自北京还是新加坡，颇尔均依托统一的技术平台、产品标准与质量要求，为客户提供一致的产品与服务体验，并通过区域协同降低供应风险，增强项目推进和长期运营的确定性。

稳定供应不是终点。产品投入使用后，如何持续改善工艺表现、系统稳定性与运营效率，同样决定长期价值。

颇尔通过CIP（Customer Improvement Program）客户改进项目，围绕颗粒污染、金属污染及具体制程需求开展分析，并结合产品、实验室与现场支持能力，与客户共同识别改善机会。讨论的重点不只是选择哪一款过滤器，还包括如何提升良率、缩短复线时间、增强系统稳定性，以及优化总体拥有成本。

由此，颇尔将先进产品、区域制造、稳定供应与持续改善连接为一套完整的支持体系。先进技术创造价值，稳定供应保障价值，而持续改善进一步放大价值。

在WESEMiBAY 2026现场，颇尔将围绕先进过滤技术、本土制造能力、亚太供应保障与客户改进项目，与行业伙伴交流半导体制造中的污染控制、供应链韧性与持续改善实践。

从本土制造到区域协同，

从稳定供应到持续改善

颇尔以更完善的制造、

供应链与服务体系，

支持先进制造持续向前。