2026半导体生态发展大会将于9月18-19日在上海科技大学会议中心拉开帷幕，汇聚行业专家共话半导体产业未来。颇尔中国微电子事业部技术支持经理周履安将于9月18日14:30现场发表《过滤技术，先进半导体制造的基石》主题演讲。
周履安
颇尔（中国）有限公司
微电子事业部，技术支持经理
演讲主题：
《过滤技术，先进半导体制造的基石》
演讲时间：
9月18日14:30-14:50
随着人工智能、大数据和高性能计算的快速发展，全球半导体产业正迎来新一轮技术升级。先进制程持续向更小节点演进，3D堆叠、Chiplet等创新架构快速普及，芯片集成度和复杂度不断提升。
与此同时，制造过程对于洁净度的要求也达到前所未有的高度。在纳米级工艺条件下，微小颗粒、金属离子、分子杂质甚至气泡缺陷，都可能被成倍放大，最终影响器件性能和生产良率。从这个意义上说，先进半导体制造的竞争，既是工艺技术的竞争，也是洁净控制能力的竞争。
作为全球过滤、分离与纯化技术的重要提供者，颇尔（Pall Corporation）正通过覆盖关键工艺环节的解决方案，以及持续深化的本土化布局，为先进制程的发展提供支撑。
01 洁净控制贯穿先进制造全流程
在现代晶圆厂中，过滤技术并非单一工序的辅助环节，而是贯穿气体供应、光刻、湿法工艺以及CMP抛光等多个关键节点。
围绕这些关键环节，颇尔形成了覆盖气体纯化、光刻化学品过滤、湿法化学品过滤和CMP浆料过滤的完整产品组合，包括Gaskleen气体纯化器、光刻用高性能过滤器、湿法工艺用高洁净化学品过滤器，以及面向先进平坦化应用的CMP过滤产品，帮助客户从源头供应到工艺使用端持续控制污染风险。
02 本土化布局提升服务响应能力
面对快速增长的亚太半导体市场，颇尔持续加强本地研发、制造与供应链建设。
2022年，颇尔投资1100万美元扩建北京工厂微电子产品产能；2023年，北京亦庄园区内Gaskleen和Profile II生产线正式投产；2024年，颇尔新加坡先进制造基地投入运营，进一步强化亚太供应链保障能力。
通过全球技术平台与本地制造能力的协同，颇尔不断提升对区域客户需求的快速响应能力，为先进制造企业提供更加稳定、高效的供应支持。
03 从产品到服务 构建全周期支持体系
除了产品技术创新之外，颇尔还建立了覆盖销售、实验室和现场服务的SLS支持体系。
依托在半导体工艺与过滤技术领域的长期积累，颇尔团队能够从工艺分析、产品选型到现场问题解决，为客户提供专业支持。
针对颗粒污染、金属离子污染等复杂工艺挑战，颇尔还推出CIP（Customer Improvement Program）客户改进项目，通过深入分析客户制程需求，提供定制化解决方案，帮助提升良率表现并降低运营成本。
04 八十年技术积累持续赋能未来创新
自1946年成立以来，颇尔始终专注于过滤、分离与纯化技术创新。
从工业过滤到生命科学，再到今天的先进半导体制造领域，颇尔不断推动过滤精度和工艺可靠性的提升，逐步成长为全球半导体产业链中的重要合作伙伴。
在AI、高性能计算和先进封装持续发展的背景下，洁净控制正成为支撑下一代芯片制造的重要基础能力。未来，颇尔将继续依托全球技术积累与本地化服务网络，为半导体产业创新发展提供更加可靠的技术支撑。
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