颇尔中国亮相2025半导体装备技术创新与应用论坛，共话先进制程过滤技术新未来

2025年11月24日，由中国半导体行业协会主办的“2025半导体装备技术创新与应用论坛”在北京国家会议中心成功举办。颇尔公司微电子事业部受邀出席本次盛会，并由技术经理白涛先生发表了题为《芯片制造的“隐形守护者”:探秘光刻先进制程滤芯的关键作用》 的主题演讲。

白涛先生现任颇尔（中国）微电子事业部技术经理，2017 年起专注光刻Track 相关设备与制程优化。2023 年加入颇尔，致力于将深厚的设备，工艺经验转化为 Pall 过滤产品的尖端应用方案，助力客户在先进节点实现良率跃升。

在演讲中，白涛先生围绕光刻工艺中过滤技术的关键角色，结合颇尔在半导体过滤与纯化领域的深厚积累，做出精彩分享。

○ 行业挑战：先进制程下，污染控制成为良率决胜关键

随着芯片制程从28nm迈向1.4nm，集成度突破2000亿晶体管，极微小的污染物（如金属颗粒、有机物）即可导致线路短路、断路等缺陷，直接冲击芯片良率与企业竞争力。

○ 技术回应：颇尔以滤膜创新助力工艺纯净

颇尔凭借多年滤膜研发经验，持续攻关制膜工艺与清洗技术，致力于实现“更高效、更快速、更洁净”的过滤性能，为光刻等关键环节提供高可靠性过滤保障。

○ 产品支持：推出面向Sub-1nm节点的过滤解决方案

针对光阻及其他高纯化学品过滤需求，颇尔成功开发HDPE sub1nm滤芯与Nylon 6,6 Extension Plus等先进滤材，助力客户在先进制程中实现良率跃升。

作为半导体制造过程中不可或缺的“隐形守护者”，过滤器的性能直接影响芯片良率与工艺稳定性。白涛先生通过深入浅出的讲解，展现了颇尔在助力客户实现先进制程良率跃升方面的技术实力与创新成果。

颇尔公司始终致力于为全球半导体行业提供专业的过滤、分离与纯化解决方案，服务于光刻、CMP等关键制程环节。未来，颇尔将继续以客户需求为导向，推动过滤技术的持续创新，为半导体产业的高质量发展注入滤芯力量。