2025年10月15–17日，SEMiBAY湾芯展将在深圳会展中心盛大启幕。颇尔诚邀您莅临9号馆9Q13展位，与我们共探半导体制造中的过滤、分离与纯化前沿技术，见证创新如何为产业注入新动能。
精彩剧透
专家现场解读CMP高阶策略
演讲地点如图所示
现场展示解决方案
除了上周展示的湿式蚀刻、CMP工艺外，颇尔光刻工艺和气体纯化解决方案也将亮相展会现场。
光刻工艺
颇尔Xpress PE-Kleen 强化了硬质颗粒的捕捉能力，有效减少相关缺陷。“XPR4A”采用先进的HDPE（高密度聚乙烯）膜技术，在拥有更高过滤精度的同时，能够实现与“XPR3L”相近的压差。
气体纯化
颇尔顶部安装式过滤器非常适合用于集成气体输送系统，并且在安装基板上易于进行检修和更换。该过滤器设计用于 ＞ 1.5 nm 半导体级气体的过滤，并且可用于各种材料、流速和接口连接。 该产品可以提供包括316L 不锈钢、镍和 PTFE 不同介质的选型，可用于多种接口，包括通过 C 型密封和 W 型密封连接的接口。
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现场体验所有精彩环节
除了干货满满的演讲
我们还精心准备了
趣味十足的游戏互动
福利放送
“滤”力捕捉，纯就卓越
玩法简单
开始后，屏幕顶端会掉落颇尔产品图片，把产品拖动到与之相同的产品图片处即可得分。
惊喜就位
活动成绩达到400分，即可参与抽奖。
游戏入口
点击H5封面或下方按钮，即刻开始游戏。